Intel Foundry Services (IFS) ha anunciado hoy que comenzará la producción en masa de su primer nodo de fabricación de silicio que aprovecha la litografía ultravioleta extrema (EUV), Intel 4.
El próximo 29 de septiembre, el nodo Intel 4 empezará a rodar en las instalaciones de la compañía en Leixlip (Irlanda), bautizadas como Fab 34. El Consejero Delegado Pat Gelsinger, la Dra. Ann Kelleher, Directora General de Desarrollo Tecnológico de Intel, y Keyvan Esfarjani, Director de Operaciones Globales, estarán presentes en una ceremonia conmemorativa de la producción de las primeras obleas.
Intel 4 se trata de una fundición avanzada que aprovecha la tecnología EUV y ofrece densidades de transistores y características eléctricas equiparables a las de los nodos de fundición de 5 nm y 4 nm de TSMC. Entre los primeros chips que se fabricarán se encuentran los Compute Tiles de los procesadores Core «Meteor Lake» de la compañía, que contienen sus núcleos de CPU de próxima generación.
En comparación con el actual nodo Intel 7, Intel 4 ofrece el doble de escalado de área para las librerías lógicas, una mejora iso-power del 20% e introduce el nuevo condensador metal-aislante-metal (MIM).
Vía: TechPowerUp
