La compañía ha anunciado un nuevo hito dentro de su hoja de ruta industrial. Intel Foundry ha confirmado la instalación en sus instalaciones de la ASML TWINSCAN EXE:5200B, la máquina EUV High-NA más avanzada del mundo hasta la fecha, marcando así la primera transición real de la industria desde EUV Low-NA a High-NA en un entorno productivo.
Este avance está directamente ligado al desarrollo del nodo 14A, que Intel ya está fabricando empleando litografía EUV High-NA, un salto tecnológico clave que permite simplificar drásticamente los procesos de fabricación, mejorar el rendimiento por oblea y acelerar los tiempos de ciclo frente a generaciones anteriores.
High-NA EUV como base del nodo Intel 14A
La instalación de la TWINSCAN EXE:5200B supone la segunda generación de escáneres High-NA EUV de ASML, tras la EXE:5000 que Intel utilizó inicialmente para las primeras pruebas del nodo 14A. En colaboración directa con ASML, la compañía ha completado ya las pruebas de aceptación de esta nueva herramienta dentro de Intel Foundry, validando su uso para producción avanzada.
Según datos facilitados por la propia Intel, el uso de High-NA EUV ha permitido reducir los pasos necesarios para determinadas capas de fabricación de más de 40 a menos de 10, un cambio estructural que se traduce en procesos más simples, menor complejidad técnica y mayor estabilidad del flujo productivo. En fases previas, Intel llegó a procesar más de 30.000 obleas en un solo trimestre, una cifra relevante tratándose de un nodo aún en desarrollo.
Más rendimiento, más precisión y mayor escalabilidad
La EXE:5200B introduce mejoras claras frente a su predecesora. En condiciones estándar, la máquina alcanza un rendimiento de 175 obleas por hora, aunque Intel prevé optimizarla por encima de las 200 obleas por hora conforme se ajusten los parámetros del sistema dentro de la fábrica.
Otro punto clave es la mejora en la precisión de overlay, permitiendo una alineación extremadamente precisa entre capas litográficas distintas, con un margen de apenas 0,7 nanómetros. Este nivel de exactitud resulta fundamental para nodos tan avanzados como 14A, donde la tolerancia geométrica es mínima y cualquier desviación afecta directamente al rendimiento y al yield.
La experiencia de Intel con High-NA EUV no es reciente. La firma instaló ya en 2023 la primera herramienta High-NA comercial del sector en su centro de I+D de Oregón, sentando las bases técnicas que ahora se materializan en una fase mucho más cercana a la producción real.
Estado del nodo 14A y planes de producción
En estos momentos, Intel Foundry ya está enviando a clientes la versión 14A PDK 0.5, con una acogida muy positiva por parte de los socios interesados. De hecho, la propia Intel ha reconocido que el desarrollo del nodo 14A está mostrando mejores parámetros de rendimiento y yield en esta fase que los obtenidos por el 18A en su momento equivalente.
La compañía mantiene su previsión de inicio de producción en volumen del nodo 14A en 2027, aunque reconoce que la adopción por parte de clientes externos suele venir acompañada de preocupaciones habituales, especialmente en materia de seguridad y capacidad de suministro de obleas. Para dar respuesta a estas dudas, Intel necesitará ampliar el número de herramientas High-NA EUV disponibles antes de escalar su base de clientes.
Mientras tanto, el nodo 18A, basado en EUV Low-NA, seguirá fabricándose en paralelo en distintas variantes, ayudando a equilibrar la demanda de capacidad mientras el 14A madura y se consolida como la futura punta de lanza tecnológica de Intel Foundry.
Vía: TechPowerUp
