Forge Nano rompe el límite de la deposición ALD y abre la puerta a una nueva era del chip 3D
Forge Nano ha logrado una demostración técnica que ataca uno de los cuellos de botella más persistentes de la fabricación de semiconductores avanzados: la deposición ALD en estructuras 3D de relación de aspecto extrema. La compañía ha validado recubrimientos conformes,… Leer más
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5 de febrero de 2026
