Texas Instruments ha anunciado el DLP991UUV digital micromirror device (DMD), su solución de litografía digital más avanzada hasta la fecha. Con 8,9 millones de píxeles, capacidad de resolución submicrónica y un procesamiento de hasta 110 gigapíxeles por segundo, el dispositivo se presenta como una alternativa a las costosas tecnologías basadas en fotomáscaras, aportando mayor flexibilidad y reducción de costes en la fabricación de semiconductores y encapsulado avanzado.
Litografía digital sin máscara: clave para el futuro del encapsulado
La litografía digital sin máscara consiste en proyectar luz directamente sobre el material para grabar los diseños de circuitos, eliminando la necesidad de fotomáscaras físicas. Esta técnica se está popularizando en la fabricación de encapsulados avanzados, que integran múltiples chips en un solo encapsulado para mejorar el rendimiento en aplicaciones como centros de datos, 5G e inteligencia artificial.
El DLP991UUV actúa como una fotomáscara programable, permitiendo un control preciso de cada píxel y una gran escalabilidad. Gracias a la eliminación de infraestructuras físicas, se reducen significativamente los costes de producción y se gana en flexibilidad, ya que es posible ajustar diseños en tiempo real sin necesidad de crear nuevas máscaras.
Características técnicas destacadas
El nuevo DMD de TI destaca por varias especificaciones clave:
- Resolución más alta de la gama: más de 8,9 millones de píxeles.
- Velocidad de procesamiento: hasta 110 gigapíxeles por segundo.
- Potencia lumínica: hasta 22,5 W/cm² a 405 nm.
- Compatibilidad espectral: funcionamiento desde 343 nm.
- Pitch de espejo más pequeño: 5,4 μm.
Estas cifras permiten conseguir precisión submicrónica en sustratos de cualquier tamaño, lo que se traduce en mayor rendimiento, menos defectos y mayor aprovechamiento de material en las líneas de producción.
Impacto en la industria de semiconductores
La compañía compara este avance con el salto que supuso la transición del cine analógico al digital. Con esta tecnología, Texas Instruments busca situarse a la vanguardia de un cambio de paradigma en la litografía, facilitando a los fabricantes la creación de sistemas más compactos, potentes y energéticamente eficientes.
En un contexto donde las demandas de alto ancho de banda y bajo consumo se intensifican para IA y 5G, el DLP991UUV se perfila como una herramienta estratégica para mejorar la competitividad de las fábricas de semiconductores y sistemas de encapsulado avanzado.
Disponibilidad
El Texas Instruments DLP991UUV ya está disponible en cantidades de preproducción a través de TI.com.
Vía: TechPowerUp
